为了清洁 CVD 和 ALD/ALE 工艺室，Paragon 远程等离子源专为 NF 3的高气体离解率 (> 95%) 而设计，气体流量高达 8 slm，压力高达 10 Torr。这种领先的性能转化为更高的工艺吞吐量和可重复的工艺结果。Paragon 设计结合了专有等离子块设计和等离子电解氧化涂层，可实现低颗粒、长块寿命，从而降低拥有成本。
- 高达 8 slm NF 流量，紧凑的尺寸可实现更快的清洁时间
- 一流的解离 (>95%)，实现高效均匀的清洁效果
- EtherCAT 智能数据报告可实现更快、更严密的设备操作
- 兼容O 2和NF 3混合气体
- 专有的 PEO 等离子块设计提供更高的工艺性能
模拟或 EtherCAT 控制
Paragon 远程等离子源具有模拟和 EtherCAT® 通信端口。EtherCAT 可用于 Paragon 的直接控制，或与模拟端口结合使用，仅作为数据监控端口。Paragon 将智能数据集流式传输到工具或晶圆厂数据库，以监控或修改操作参数，以保持工艺工具以最高效率运行并支持诊断（APC、FDC）应用程序。